石墨制品石墨坩埚氧化温度及原因

一、为什么石墨制品石墨坩埚在真空环境中会氧化

  石墨制品石墨坩埚是由碳素石墨制成的，具有高温稳定性和抗腐蚀性的特色，被广泛地应用于各种高温实验中。但在真空环境下，由于石墨坩埚内部的氧气和水蒸气被排出，失去了保护，容易发生氧化反应，构成CO和CO2等氧化物，石墨坩埚表面色彩转黑，甚至呈现明显的坑洞和裂纹。导致实验效果的准确性下降。

二、石墨坩埚氧化温度
    一般来说，石墨制品石墨坩埚的氧化温度范围在600℃-650℃左右。如果在这个温度范围内运用石墨坩埚，应该严峻把控实验时间，防止过久的高温显露。一起，能够通过下降氧分压、增加保护气氛等方法来减缓石墨坩埚的氧化速度。

三、怎样推迟石墨制品石墨坩埚的氧化速度

    1.操控实验时间：在高温环境下，石墨制品石墨坩埚的氧化速度随时间的增加而加快。因而，应尽量缩短高温下的实验时间。

    2.下降氧分压：能够通过在石墨制品石墨坩埚内参加必定量的还原剂，如纯碳或硅粉等，下降氧分压，减缓氧化速度。

    3.增加保护气氛：在真空环境下运用石墨制品石墨坩埚时，能够通过运用惰性气体来构成保护气氛，如氩气、氮气等，防止石墨坩埚与氧气触摸然后氧化。

四、怎样减少石墨坩埚氧化对实验效果的影响
    1.预处理：运用前先进行预处理，将石墨制品石墨坩埚加热到必定温度，并注入惰性气体中进行处理，以利于保护石墨坩埚的表面。

    2.及时替换石墨坩埚：当石墨制品石墨坩埚表面呈现氧化反应时，应及时替换石墨坩埚，避免影响实验效果的准确性。

    总归，在实验室中运用石墨制品石墨坩埚时，应留意它的氧化温度和氧化速度，采纳相应的办法进行保护和推迟氧化速度，避免影响实验效果的准确性。

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